Počet záznamů: 1
Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy
- 1.
SYSNO 0478403 Název Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy Překlad názvu Thick layer coating on Si wafers and the control of the layer Tvůrce(i) Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAIVyd. údaje 2017 Poddruh Ověřená technologie Int.kód APL-2017-02 Vlastník výsledku Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Technické parametry Vrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší. Ekonomické parametry Ověřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz Číselná identifikace APL-2017-02 Druh dok. Poloprovoz, ověřená technol., odrůda, plemeno Grant LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova e-beam lithography * PMMA rezist * thick layers * spin coating Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0274516
Počet záznamů: 1