Počet záznamů: 1
Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0470666 Název Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering Tvůrce(i) Lundin, D. (FR)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 34, č. 4 (2016), 1-10. - : AIP Publishing Číslo článku 041305 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika 608800, XE - země EU Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova radiofrequency current * voltage measurements * energy-distributions * sheath voltages * deposition * density * hysteresis * discharges * films * technology Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0268241
Počet záznamů: 1