Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0470666
Název	Time-resolved ion flux and impedance measurements for process characterization in reactive high-power impulse magnetron sputtering
Tvůrce(i)	Lundin, D. (FR) Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 34, č. 4 (2016), 1-10. - : AIP Publishing
Číslo článku	041305
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	608800, XE - země EU
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	radiofrequency current * voltage measurements * energy-distributions * sheath voltages * deposition * density * hysteresis * discharges * films * technology
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0268241

Počet záznamů: 1