Počet záznamů: 1
High-rate reactive deposition of transparent SiO.sub.2./sub. films containing low amount of Zr from molten magnetron target
- 1.
SYSNO 0437497 Název High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target Tvůrce(i) Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCID
Satava, V. (CZ)
Baroch, P. (CZ)Zdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 519, č. 2 (2010), s. 775-777. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku CEZ AV0Z10100520 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. CH Klíč.slova sputtering * evaporation * reactive deposition * target power density Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0241059
Počet záznamů: 1