Počet záznamů: 1  

Comparative study of total power density at a substrate in pulsed DC magnetron and hollow-cathode plasma jet sputtering systems

  1. 1.
    SYSNO0335019
    NázevComparative study of total power density at a substrate in pulsed DC magnetron and hollow-cathode plasma jet sputtering systems
    Překlad názvuPorovnávací studie celkové výkonové hustoty na substrát v pulzním DC magnetronovém výboji a v plazma-jetu s dutou katodou
    Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Virostko, Petr (FZU-D)
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok. Plasma Processes and Polymers. Roč. 6, S1 (2009), S247-S252. - : Wiley
    Konference International Conference on Plasma Surface Engineering /11./, Garmisch Partenkirchen, 15.09.2008-19.09.2008
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    KJB100100707 GA AV ČR - Akademie věd
    KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd
    1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.DE
    Klíč.slova calorimeter probe * floating substrate * magnetron * plasma jet * pulsed discharge
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0179607
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.