Počet záznamů: 1
Measurement of total energy flux density at a substrate during TiO.sub.x./sub. thin film deposition by using a plasma jet system
- 1.
SYSNO 0334316 Název Measurement of total energy flux density at a substrate during TiOx thin film deposition by using a plasma jet system Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Virostko, Petr (FZU-D)
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Vacuum. Roč. 83, č. 4 (2009), s. 738-744. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant KJB100100707 GA AV ČR - Akademie věd KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. GB Klíč.slova hollow cathode * plasma jet * sputtering * pulsed DC * energy influx on substrate * TiO2 URL http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW4-4SJ2WRT-2&_user=625012&_rdoc=1&_fmt=&_orig=search&_sort=d&view=c&_acct=C000031722&_vers Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0179088
Počet záznamů: 1