Počet záznamů: 1
Scanning thermal microscopy of thermoelectric nanostructures
- 1.
SYSNO ASEP 0470064 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Scanning thermal microscopy of thermoelectric nanostructures Tvůrce(i) Vaniš, Jan (FZU-D)
Zelinka, Jiří (FZU-D) RID
Zeipl, Radek (FZU-D) RID
Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
Kocourek, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Remsa, Jan (FZU-D) RID, ORCID
Navrátil, Jiří (UMCH-V) RIDCelkový počet autorů 7 Zdroj.dok. Journal of Electronic Materials. - : Springer - ISSN 0361-5235
Roč. 45, č. 3 (2016), s. 1734-1739Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova thermoelectric layer ; scanning thermal microscopy ; pulsed laser deposition ; laser deposition ; secondary ion mass spectrometry Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Vědní obor RIV – spolupráce Ústav makromolekulární chemie - Anorganická chemie CEP GA15-05864S GA ČR - Grantová agentura ČR GA13-33056S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UMCH-V - RVO:61389013 UT WOS 000371163400074 EID SCOPUS 84959538021 DOI 10.1007/s11664-015-4193-7 Anotace We present the development and results of a new simple method for thermal conductivity characterization of thin films and thermoelectric structures using a scanning thermal microscope in pulsed current mode. The presented method does not allow measurement of absolute thermal conductivity of the studied system, but only relative to the Si substrate. We present the results of the method on the Si substrate/layer step boundary. The nano-layers of different thickness and different materials were prepared for the experiments by the pulsed laser deposition from hot-pressed targets. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2017
Počet záznamů: 1