Počet záznamů: 1  

Silicon vacancy-related centers in non-irradiated 6H-SiC nanostructur

  1. 1.
    SYSNO ASEP0448576
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevSilicon vacancy-related centers in non-irradiated 6H-SiC nanostructur
    Tvůrce(i) Bagraev, N.T. (RU)
    Danilovskii, E.Yu. (RU)
    Gets, D.S. (RU)
    Kalabukhova, E.N. (UA)
    Klyachkin, L.E. (RU)
    Koudryavtsev, A.A. (RU)
    Malyarenko, A.M. (RU)
    Mashkov, V.A. (RU)
    Savchenko, Dariia (FZU-D) RID, ORCID
    Shanina, B.D. (UA)
    Zdroj.dok.Semiconductors - ISSN 1063-7826
    Roč. 49, č. 5 (2015), 649-657
    Poč.str.9 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.RU - Rusko
    Klíč. slovaelectron spin resonance ; 6H-SiC nanostructures ; silicon vacancy related centers ; NV centers
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGP13-06697P GA ČR - Grantová agentura ČR
    LM2011029 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000354103400018
    EID SCOPUS84928898748
    DOI10.1134/S1063782615050036
    AnotaceWe present the first findings of the silicon vacancy related centers identified in the non-irradiated 6H-SiC nanostructure using the electron spin resonance (ESR) and electrically-detected (ED) ESR technique. This planar 6H-SiC nanostructure represents the ultra-narrow p-type quantum well confined by the δ-barriers heavily doped with boron on the surface of the n-type 6H-SiC(0001) wafer. The new EDESR technique by measuring the only magnetoresistance of the 6H-SiC nanostructure under the high frequency gen- eration from the δ-barriers appears to allow the identification of the isolated silicon vacancy centers as well as the triplet center with spin state S = 1. The same triplet center that is characterized by the large value of the zero-field splitting constant D and anisotropic g-factor is revealed by the ESR (X-band) method.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.