Počet záznamů: 1
Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber
- 1.0449004 - FZÚ 2016 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Pokorný, Petr - Musil, Jindřich - Fitl, Přemysl - Novotný, Michal - Lančok, Ján - Bulíř, Jiří
Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber.
Plasma Processes and Polymers. Roč. 12, č. 5 (2015), s. 416-421. ISSN 1612-8850. E-ISSN 1612-8869
Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP108/11/1298; GA ČR(CZ) GAP108/11/1312; GA ČR(CZ) GAP108/11/0958; GA ČR(CZ) GA14-10279S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: contamination * low-pressure discharges * magnetron * metallic films * sputtering
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.713, rok: 2015
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0250593
Počet záznamů: 1