Počet záznamů: 1
Mechanical properties and microstructural characterization of amorphous SiC.sub.x./sub.N.sub.y./sub. thin films after annealing beyond 1100°C
- 1.0470522 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Čtvrtlík, R. - Kulikovsky, V. - Vorlíček, Vladimír - Tomaštík, J. - Drahokoupil, Jan - Jastrabík, L.
Mechanical properties and microstructural characterization of amorphous SiCxNy thin films after annealing beyond 1100°C.
Journal of the American Ceramic Society. Roč. 99, č. 3 (2016), 996-1005. ISSN 0002-7820. E-ISSN 1551-2916
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: SiCxNy thin films * reactive DC magnetron sputtering * annealing * XRD and Raman spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.841, rok: 2016 ; AIS: 0.663, rok: 2016
DOI: https://doi.org/10.1111/jace.14057
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0269721
Počet záznamů: 1