Počet záznamů: 1
Dual implantation of Si with boron and argon ions
- 1.
SYSNO ASEP 0183382 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Dual implantation of Si with boron and argon ions Tvůrce(i) Popok, V. (CZ)
Hnatowicz, Vladimír (UJF-V) RID
Kvítek, Jiří (UJF-V)
Švorčík, V. (CZ)
Rybka, V. (CZ)Zdroj.dok. Physica Status Solidi A : Applied Research - ISSN 0031-8965
Roč. 141, - (1994), s. 93-98Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 1995
Počet záznamů: 1