Počet záznamů: 1  

Dual implantation of Si with boron and argon ions

  1. 1.
    0183382 - UJF-V 940052 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Popok, V. - Hnatowicz, Vladimír - Kvítek, Jiří - Švorčík, V. - Rybka, V.
    Dual implantation of Si with boron and argon ions.
    Physica Status Solidi A. Roč. 141, - (1994), s. 93-98. ISSN 0031-8965
    Impakt faktor: 0.596, rok: 1994
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0079883

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.