Microwave plasma chemical vapour deposition of nanocrystalline diamond films

Počet záznamů: 1

SYSNO ASEP	0134355
Druh ASEP	C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
Zařazení RIV	D - Článek ve sborníku
Název	Microwave plasma chemical vapour deposition of nanocrystalline diamond films
Tvůrce(i)	Popov, C. (DE) Jelínek, Miroslav (FZU-D)_{RID, ORCID} Bulíř, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kulich, W. (DE)
Zdroj.dok.	Proceedings of International Symposium on Plasma Chemistry /16./. - Roma : xx, 2003
Rozsah stran	s. ispc-014-1 - ispc-014-5
Forma vydání	CD-ROM - CD-ROM
Akce	International Symposium on Plasma Chemistry /16./
Datum konání	22.06.2003-27.06.2003
Místo konání	Taormina
Země	IT - Itálie
Typ akce	EUR
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	IT - Itálie
Klíč. slova	nanocrystalline diamond films ; microwave plasma chemical vapour deposition
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEZ	AV0Z1010914 - FZU-D
Anotace	Nanocrystalline diamond films have been prepared by microwave plasma chemical vapour deposition from methan/nitrogen mixtures and the influence of the gas phase composition on the properties of the deposited films was investigated.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2004

Počet záznamů: 1