Počet záznamů: 1
Pulsed laser deposition of CN.sub.x./sub. films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation
- 1.
SYSNO ASEP 0133933 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Pulsed laser deposition of CNx films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation Tvůrce(i) Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
Zelinger, Zdeněk (UFCH-W) RID, ORCID
Trchová, M. (CZ)Zdroj.dok. Diamond and Related Materials. - : Elsevier - ISSN 0925-9635
Roč. 11, - (2002), s. 1223-1226Poč.str. 4 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova laser ; CNx ; radio frequency (r.f.) Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP LN00A015 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace Thin CNx films were deposited by pulsed laser deposition equipped with KrF excimer laser. An additional radio-frequemcy discharge of the nitrogen gas was appled.The role of atomic nitrogen in CN radical formation was studied using emission spectroscopy. The composition of the films was measured by WDX. The N/C ratio of all films was approximately 1 and did not vary with N pressure. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2003
Počet záznamů: 1