Počet záznamů: 1  

Pulsed laser deposition of CN.sub.x./sub. films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation

  1. 1.
    0133933 - FZU-D 20020217 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Jelínek, Miroslav - Lančok, Ján - Zelinger, Zdeněk - Trchová, M.
    Pulsed laser deposition of CNx films: role of r.f. nitrogen plasma activation for the film structure formation.
    Diamond and Related Materials. Roč. 11, - (2002), s. 1223-1226. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
    Grant CEP: GA MŠMT LN00A015
    Grant ostatní: -(XC) INCO/COPRNICUS/IC 15CT 960757
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: laser * CNx * radio frequency (r.f.)
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.734, rok: 2002

    Thin CNx films were deposited by pulsed laser deposition equipped with KrF excimer laser. An additional radio-frequemcy discharge of the nitrogen gas was appled.The role of atomic nitrogen in CN radical formation was studied using emission spectroscopy. The composition of the films was measured by WDX. The N/C ratio of all films was approximately 1 and did not vary with N pressure.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031881

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.