Investigation of the thermal stability of nitrogen-rich amorphous carbon nitride films

Počet záznamů: 1

SYSNO ASEP	0133320
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	Investigation of the thermal stability of nitrogen-rich amorphous carbon nitride films
Tvůrce(i)	Kulisch, W. (DE) Popov, C. (DE) Zambov, L. M. (DE) Bulíř, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Delplancke-Ogletree, M. P. (BE) Lančok, Ján (FZU-D)_{RID, ORCID} Jelínek, Miroslav (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Thin Solid Films. - : Elsevier - ISSN 0040-6090 377-378, - (2000), s. 148-155
Poč.str.	8 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	NL - Nizozemsko
Klíč. slova	carbon nitride ; annealing ; pulsed laser deposition ; inductively coupled plasma chemical vapour deposition
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEZ	AV0Z1010914 - FZU-D
Anotace	The thermal stability of nitrogen-rich amorphous carbon nitride films is investigated from room temperature up to 600oC. The films were deposited by three different methods,namely pulsed laser deposition,inductively coupled plasma chemical capour deposition with gaseous precursors and ICP-CVD utilizing transport reactions.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2002

Počet záznamů: 1