Počet záznamů: 1  

Investigation of the thermal stability of nitrogen-rich amorphous carbon nitride films

  1. 1.
    0133320 - FZU-D 20010115 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Kulisch, W. - Popov, C. - Zambov, L. M. - Bulíř, Jiří - Delplancke-Ogletree, M. P. - Lančok, Ján - Jelínek, Miroslav
    Investigation of the thermal stability of nitrogen-rich amorphous carbon nitride films.
    Thin Solid Films. 377-378, - (2000), s. 148-155. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: carbon nitride * annealing * pulsed laser deposition * inductively coupled plasma chemical vapour deposition
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.160, rok: 2000

    The thermal stability of nitrogen-rich amorphous carbon nitride films is investigated from room temperature up to 600oC. The films were deposited by three different methods,namely pulsed laser deposition,inductively coupled plasma chemical capour deposition with gaseous precursors and ICP-CVD utilizing transport reactions.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031297

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.