Počet záznamů: 1
Some growth peculiarities of a-C:H films in ECR microwavw plasma
- 1.
SYSNO ASEP 0133315 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Some growth peculiarities of a-C:H films in ECR microwavw plasma Tvůrce(i) Kulikovsky, V. (UA)
Shaginyan, L. R. (UA)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Soukup, Ladislav (FZU-D)
Boháč, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Vacuum. - : Elsevier - ISSN 0042-207X
Roč. 60, - (2001), s. 315-323Poč.str. 9 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova a-C:H polymer-like films ; ECR microwave plasma ; CVD Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP IAA1010827 GA AV ČR - Akademie věd CEZ A02/98:Z1-010-914 Anotace The chemical vapor deposition (CVD) process of a-C:H films from methane and argon gas mixtures in an electron cyclotron resonance microwave plasma has been investigated. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2002
Počet záznamů: 1