0133315 - FZU-D 20010110 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kulikovsky, V. - Shaginyan, L. R. - Jastrabík, Lubomír - Soukup, Ladislav - Boháč, Petr - Musil, Jindřich
Some growth peculiarities of a-C:H films in ECR microwavw plasma.
Vacuum. Roč. 60, - (2001), s. 315-323. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA AV ČR IAA1010827
Výzkumný záměr: CEZ:A02/98:Z1-010-914
Klíčová slova: a-C:H polymer-like films * ECR microwave plasma * CVD
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.541, rok: 2001

The chemical vapor deposition (CVD) process of a-C:H films from methane and argon gas mixtures in an electron cyclotron resonance microwave plasma has been investigated.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031294