Počet záznamů: 1
An ellipsometric study of W thin films deposited on Si
- 1.
SYSNO ASEP 0132806 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název An ellipsometric study of W thin films deposited on Si Tvůrce(i) Deineka, Alexander (FZU-D)
Tarasenko, A. A. (UA)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Chvostová, Dagmar (FZU-D) RID, SAI, ORCID
Boušek, Jaroslav (UPT-D)Zdroj.dok. Thin Solid Films. - : Elsevier - ISSN 0040-6090
Roč. 339, - (1999), s. 216-219Poč.str. 4 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP IAA2010536 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace The results of spectral and angle-dependent ellipsometric measurements of r.f. magnetron-sputtered very thin tungsten films (2/8nm) deposited onto {100} oriented silicon substrates have been reported. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2001
Počet záznamů: 1