0132806 - FZU-D 20000058 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Deineka, Alexander - Tarasenko, A. A. - Jastrabík, Lubomír - Chvostová, Dagmar - Boušek, Jaroslav
An ellipsometric study of W thin films deposited on Si.
Thin Solid Films. Roč. 339, - (1999), s. 216-219. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA AV ČR IAA2010536
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.101, rok: 1999

The results of spectral and angle-dependent ellipsometric measurements of r.f. magnetron-sputtered very thin tungsten films (2/8nm) deposited onto {100} oriented silicon substrates have been reported.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030805