Počet záznamů: 1
An ellipsometric study of W thin films deposited on Si
SYS 0132806 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20210803155025.8 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a An ellipsometric study of W thin films deposited on Si 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257662 $1 011 $a 0040-6090 $e 1879-2731 $1 200 1 $a Thin Solid Films $v Roč. 339, - (1999), s. 216-219 $1 210 $c Elsevier 700 -1
$3 cav_un_auth*0038106 $a Deineka $b Alexander $p FZU-D $w Optical and Biophysical Systems $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0036645 $a Tarasenko $b A. A. $y UA $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100162 $a Chvostová $b Dagmar $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101534 $a Boušek $b Jaroslav $p UPT-D $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1