Počet záznamů: 1
Characterization of laser pattern a-Si:H thin films by combined AFM/Local Current Measurements
- 1.
SYSNO ASEP 0132755 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Characterization of laser pattern a-Si:H thin films by combined AFM/Local Current Measurements Tvůrce(i) Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Fejfar, Antonín (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kočka, Jan (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Nebel, C. E. (DE)
Stutzmann, M. (DE)Zdroj.dok. Physica Status Solidi A : Applied Research - ISSN 0031-8965
Roč. 170, č. 1 (1998), s. R1-R2Poč.str. 2 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Anotace Laser interference crystallization of amorphous hydrogenated silicon, followed by selective plasma-enhanced deposition and etching can be used for new large area microelectronic applications. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2001
Počet záznamů: 1