0104229 - FZU-D 20040571 RIV CZ eng J - Článek v odborném periodiku
Vaněk, J. - Čech, V. - Přikryl, R. - Zemek, Josef - Peřina, Vratislav
Basic characteristics of the a-SiOC:H thin films prepared by PE CVD.
[Charakterizace tenkých vrstev a-SiOC:H připravených metodou PECVD.]
Czechoslovak Journal of Physics. Roč. 54, Suppl. C (2004), s. C937-C942. ISSN 0011-4626
Grant CEP: GA MŠMT ME 597; GA MŠMT OC 527.110; GA ČR GA104/03/0236
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: vinyltriethoxysilane * thin film * PECVD
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.292, rok: 2004
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0000148