Počet záznamů: 1
Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition
- 1.
SYSNO ASEP 0100731 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition Překlad názvu Vliv RF výboje na růst nanokrystalických diamantových vrstev deponovaných metodou pulsní laserové depozice Tvůrce(i) Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
Vorlíček, Vladimír (FZU-D) RID
Michalka, M. (SK)
Popov, C. (DE)Zdroj.dok. Nano'03. - Brno : VUT Brno, 2003 / Šandera P. - ISBN 80-214-2527-X Rozsah stran s. 215-218 Poč.str. 4 s. Akce NANO'03 Datum konání 21.10.2003-23.10.2003 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova laser deposition ; thin films ; diamond Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP IAA1010110 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace In this paper, we report on the growth of NCD films by PLD in pure hydrogen ambient and by HPLD in Ar/H2 ambient. HPLD systems were based on combination of PLD and addiational RF discharges. The deposited films were studied using Alfastep profilometer, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and scanning electron microscopy Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2005
Počet záznamů: 1