0100731 - FZU-D 20040454 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Novotný, Michal - Jelínek, Miroslav - Bulíř, Jiří - Lančok, Ján - Vorlíček, Vladimír - Michalka, M. - Popov, C.
Influence of RF discharges on nanocrystalline diamond films growth by pulsed laser deposition.
[Vliv RF výboje na růst nanokrystalických diamantových vrstev deponovaných metodou pulsní laserové depozice.]
Nano'03. Brno: VUT Brno, 2003 - (Šandera, P.), s. 215-218. ISBN 80-214-2527-X.
[NANO'03. Brno (CZ), 21.10.2003-23.10.2003]
Grant CEP: GA AV ČR IAA1010110
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: laser deposition * thin films * diamond
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

In this paper, we report on the growth of NCD films by PLD in pure hydrogen ambient and by HPLD in Ar/H₂ ambient. HPLD systems were based on combination of PLD and addiational RF discharges. The deposited films were studied using Alfastep profilometer, X-ray diffraction, Raman spectroscopy and scanning electron microscopy

V této studii je prezentován růst nanokrystalických diamantových vrstev metodou PLD v atmosféře čistého vodíku a metodou HPLD v směsi Ar+H₂. HPLD systém je založen na kombinaci PLD s přídavným RF výbojem. Vlastnosti deponovaných vrstev byli studovány pomocí profilometru-Alfastep, XRD, ramanovou spektroskopií a skenovacím elektronovým mikroskopem
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0008223