Počet záznamů: 1
XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films
SYS 0100134 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20210803154412.3 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films 215 $a 5 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257687 $1 011 $a 0042-207X $e 1879-2715 $1 200 1 $a Vacuum $v Roč. 71, - (2003), s. 329-333 $1 210 $c Elsevier 541 $a Využití výtěžku fotoelektronů buzených čarou He II a rtg zářením ke studiu procesu aktivace Ti-Zr nevypařovaných tenkých vrstev $z cze 610 1-
$a non-evaporable getters 610 1-
$a Ti-Zr alloys 610 1-
$a XPS 610 1-
$a photoelectron yield 610 1-
$a activation process 610 1-
$a oxide reduction 700 -1
$a Zemek $b Josef $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $3 cav_un_auth*0100630 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$a Jiříček $b Petr $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $3 cav_un_auth*0100265 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1