0100134 - FZU-D 20040114 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Zemek, Josef - Jiříček, Petr
XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films.
[Využití výtěžku fotoelektronů buzených čarou He II a rtg zářením ke studiu procesu aktivace Ti-Zr nevypařovaných tenkých vrstev.]
Vacuum. Roč. 71, - (2003), s. 329-333. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: non-evaporable getters * Ti-Zr alloys * XPS * photoelectron yield * activation process * oxide reduction
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.612, rok: 2003

An activation process of the Ti-Zr thin films was studied by X-ray induced photoelectron spectroscopy and by measurements of ultraviolet induced photoelectron yield

Aktivační proces Ti-Zr tenkých vrstev (getrů) byl studován měřením výtěžku fotoelektronů buzených rtg a He II zářením
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007640