- Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temp…
Počet záznamů: 1  

Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

  1. 1.
    Vlček, J. - Potocký, T. - Čížek, J. - Houska, J. - Kormunda, M. - Zeman, Pavel - Peřina, Vratislav - Zemek, J. - Setsuhara, Y.
    Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 23, č. 6 (2005), s. 1513-1522. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Impact factor: 1.399, year: 2005
    http://hdl.handle.net/11104/0119346
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.