0029512 - ÚJF 2006 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vlček, J. - Potocký, T. - Čížek, J. - Houska, J. - Kormunda, M. - Zeman, Pavel - Peřina, Vratislav - Zemek, J. - Setsuhara, Y.
Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance.
[Reaktivní magnetronové naprašování tvrdých Si-C-B-N vrstev s vysoceteplotní oxidační odolností.]
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 23, č. 6 (2005), s. 1513-1522. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: precursor-derived ceramics * carbon nitride films * thin-films
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Impakt faktor: 1.399, rok: 2005

: Based on the results obtained for C-N and Si-C-N films, a systematic investigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on p-type Si(100) substrates by dc magnetron co-sputtering using a single C-Si-B target (at a fixed 20% boron fraction in the target erosion area) in nitrogen-argon gas mixtures. Elemental compositions of the films, their surface bonding structure and mechanical properties, together with their oxidation resistance in air, were controlled by the Si fraction (5-75%) in the magnetron target erosion area, the Ar fraction (0-75%) in the gas mixture, the rf induced negative substrate bias voltage (from a floating potential to -500 V) and the substrate temperature (180-350 degrees C). The total pressure and the discharge current on the magnetron target were held constant at 0.5 Pa and 1 A, respectively.

S použitím výsledků přípravy C-N a Si-C-N vrstev byly systematicky zkoumány tvrdé materiály Si-B-C-N. Příprava byla prováděna magnetronovým naprašováním z C-Si-B terčíku ve směsi dusíku a argonu na p-Si(100) podložky. Složení vrstev, jejich chemické vazby a tím i mechanické vlastnosti spolu s oxidační odolností byly řízeny poměrem křemíku v terčíku, poměrem argonu k dusíku v plynné atmosféře, záporným předpětím a teplotou podložky. Tlak plynné směsi a výbojový prod magnetronu byly konstantní (0.5 Pa a 1 A). Byly měřeny výbojové charakteristiky v depoziční zóně včetně složení toku dopadajících iontů. Výsledné vrstvy měly tlouštky od 1 do 2.4 mikronu, hustoty ~ 2.4g/cm3 , hladký povrch, amorfní nanostrukturu, dobrou adhesi k substrátu při malém napětí. Vrstvy byly velmi tvrdé (do 47 Gpa), pružné a vzdorovaly oxidaci do dosažitelné teploty 1350oC.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0119346