Počet záznamů: 1  

Elektronová litografie pro nanotechnologie

  1. 1.
    SYSNO0026426
    NázevElektronová litografie pro nanotechnologie
    Překlad názvuElectron beam lithography for nanotechnology
    Tvůrce(i) Výborný, Zdeněk (FZU-D)
    Zdroj.dok. Jemná mechanika a optika. Roč. 50, 11-12 (2005), s. 313-318. - : Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova lithography * photolithography * electron beam lithography * EBL * nanolithography * nanotechnology * SEM
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0116677
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.