0026426 - FZÚ 2006 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Výborný, Zdeněk
Elektronová litografie pro nanotechnologie.
[Electron beam lithography for nanotechnology.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 50, 11-12 (2005), s. 313-318. ISSN 0447-6441
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: lithography * photolithography * electron beam lithography * EBL * nanolithography * nanotechnology * SEM
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

Byly rozpracovány a aplikovány koncepce zařízení EBL od jednoduchých sestav pro laboratorní užití až po průmyslové aparatury pro výrobu fotolitografických masek. Jejich optimální výběr závisí na zaměření pracoviště, jeho výbavě a na vlastnostech zpracovávaných vzorků. Kupříkladu pro badatelské pracoviště orientované na výzkum nanostruktur a jejich diagnostiku je vhodným řešením sestava EBL založená na špičkovém rastrovacím elektronovém mikroskopu (SEM) doplněném o litografický řídicí systém a o přesný stolek s posuvy řízenými laserovými interferometry

Several construction types of EBL have been developed and applied from the simplest one based on a laboratory SEM microscope combined with a lithographic attachment up to sophisticated machines for photomasks industrial production. The optimal choice of an EBL apparatus depends on the character of the laboratory, its other equipment and on the types of the samples under research or development. For example an „E-Beam turnkey-solution“ apparatus based on a top SEM together with an optical pattern generator control unit plus laser-interferometer-controlled stage is a good choice for a laboratory specialized in the research of nanostructures technology and diagnostics
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116677