Počet záznamů: 1
Design of Setup for Laser Induced Plasma Etching
- 1.
SYSNO ASEP 0617414 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Design of Setup for Laser Induced Plasma Etching Tvůrce(i) Šilhan, Lukáš (UPT-D)
Novotný, Jan (UPT-D) ORCID, SAI, RID
Plichta, Tomáš (UPT-D) ORCID, SAI
Ježek, Jan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Vaculík, Ondřej (UPT-D)
Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAICelkový počet autorů 6 Zdroj.dok. 2024 37th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2024. - New York : IEEE, 2024 - ISSN 2164-2370 - ISBN 979-8-3503-7977-8 Rozsah stran s. 44-45 Edice International Vacuum Nanoelectronics Conference Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC) /37./ Datum konání 15.07.2024 - 19.07.2024 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova vacuum chamber ; plasma etching ; femtosecond laser ; micromachining ; three-dimensional displays ; lithography ; electronics industry ; surface emitting lasers ; ignition Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP TN02000020 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 UT WOS 001310530600005 EID SCOPUS 85204066231 DOI https://doi.org/10.1109/IVNC63480.2024.10652276 Anotace Plasma etching introduces a physically activated chemical process highly utilized in the semiconductor industry. However, for the creation of etched structures mask has to be prepared on top of the etched surfaces. This is usually achieved by electron beam lithography, which adds to the complexity and financial demands of the overall process. We present the design of a setup for maskless plasma etching, which utilizes a tightly focused ultrashort laser pulse for the ignition of etching plasma in a custom vacuum chamber with a connection to a gas-containing etching species. In addition, etched structures are written into the surface of sample by scanning with the vacuum chamber with relation to fixed laser focus. This enables maskless 3D etching of samples with a less complicated technological process. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2025 Elektronická adresa https://ieeexplore.ieee.org/document/10652276
Počet záznamů: 1