SMV-2014-28: Vývoj testovacích preparátů pro REM

0439067 - ÚPT 2017 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav
SMV-2014-28: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2014-28: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno s.r.o, 2014. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

Náplní práce byl výzkum/vývoj a realizace přesných reliéfních struktur pomocí mikrolitografických technik v křemíku pro testování zobrazování rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Výzkum zahrnuje analýzu grafických vstupu z ohledu jeho použití pro testování metriky skenovacích elektronových mikroskopů, výzkum vhodných technik a postupů pro přípravu reliéfních prvku v křemíku ve vysoké přesnosti a opakovatelnosti.

The aim of the work was the research/development and realisation of precise relief structure for testing imaging of scanning electron microscopes (SEM) using microlithographic techniques of recording in the silicon. Research includes analysis of graphical input with respect of their use for testing of SEM imaging metric, research of appropriate techniques and procedures suitable for the preparation of relief elements in the silicon with high accuracy and repeatability.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0242373