SMV-2012-12: Testovací preparát pro SEM

0426267 - ÚPT 2017 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav
SMV-2012-12: Testovací preparát pro SEM.
[SMV-2012-12: Testing specimens for SEM.]
Brno: TESCAN ORSAY HOLDING, a.s, 2012. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: dimensional standard * e-beam lithography * e-beam microscopy * anisotropic Silicon etching
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Výzkum a vývoj v oblasti přípravy testovacích struktur reliéfního typu na křemíkovém čipu. Využití pro testování metriky elektronových rastrovacích mikroskopů a kalibrací zorného pole. Čip je připraven pomocí elektronové litografie a dalších technik.

Research and development in the field of relief testing structures on Silicon wafer. The specimen is to be used for testing of metrics of scanning electron microscopes (SEM) as well as for the calibration of the SEM view of field. The samples are prepared by means of electron-beam lithography and related techniques.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0232003