Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0

0336579 - ÚPT 2010 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Matějka, František - Matějka, Milan - Urbánek, Michal - Král, Stanislav
Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0.
[E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0.]
Interní kód: 6241 ; 2009
Technické parametry: Velikost svazku: 25-3150 nm. Otočení souřadnic tvarování: -30 stupňů. Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 0,8 – 1,6 – 4,8 A/cm2.
Ekonomické parametry: Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožnilo realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: Electron Beam Lithography with Shaped Beam
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Elektronový litograf BS600/TZ-0 je elektronově-optické zařízení vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostrukltur se submikronovým rozlišením. Elektronový litograf pracuje s konstantním urychlovacím napětím 15 kV, pravoúhlým tvarovatelným svazkem, jehož velikost lze nastavit nezávisle v obou směrech od 25 nm do 3150 nm s krokem 25 nm, s vychylovacím polem 3,2 mm x 3,2 mm s krokem 50 nm. Vzájemná orientace souřadnic tvarování a vychylování je 30 stupňů.

The e-beam writer BS600/TZ-0 is an electron-optical systém developed and optimized for production of relief microstructures with a sub-micron resolution. The e-beam writer is operating at a constant accelerating voltage of 15 kV, rectangular shaped beam of variable size adjustable in the range 25-3150 nm with a step of 25 nm, and a deflection module scanning the beam position within the field of 3.2 mm x 3.2 mm at resolution of 50 nm. Mutual orientation of shaping axes and deflection axes is 30 degree.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180783