Počet záznamů: 1  

UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films

  1. 1.
    0180696 - UFCH-W 990111 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Ouchi, A. - Koga, Y. - Bastl, Zdeněk - Pola, Josef
    UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films.
    Applied Organometallic Chemistry. Roč. 13, - (1999), s. 643-647. ISSN 0268-2605. E-ISSN 1099-0739
    Grant CEP: GA ČR GA203/96/1217
    Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
    Impakt faktor: 1.270, rok: 1999
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0077340

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.