Počet záznamů: 1  

Homogenious focusing with a transient soft X-ray laser for irradiation experiments

  1. 1. 0045327 - FZU-D 2007 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Kazamias, S. - Cassou, K. - Guilbaud, O. - Klisnick, A. - Ros, D. - Plé, F. - Jamelot, G. - Rus, Bedřich - Kozlová, Michaela - Stupka, Michal - Mocek, Tomáš - Douillet, D. - Zeitoun, P. - Joyeux, D. - Phalippou, D.
    Homogenious focusing with a transient soft X-ray laser for irradiation experiments.
    [Homogenní fokusce tranzitním měkkým rentgenovým laserem pro ozařovací experimenty.]
    Optics Communications. Roč. 263, - (2006), s. 98-104 ISSN 0030-4018
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LC528; GA ČR GA202/05/2316
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
    Klíčová slova: soft X-Ray laser * focusing * laser plasma * UV radiation * beam profile
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Impakt faktor: 1.480, rok: 2006

    Overview of problems set by the transient soft X-Ray laser developed by the LIXAM at LULI installation in Palaiseau and demonstrated by a quasi stationary state (QSS) soft X-Ray laser at the PALS facility in Prague. Spatial profile irregularities of the beam and parameters of obtained 20 micron spot near the focus and its capacity to interact with targets in the extreme UV domain are discussed

    Uvádíme zprávu týkající se výsledků spojených s charakterizací svazku tranzitního měkkého rentgenového laseru (SXRL) jako zdroje EUV záření pro aplikační experimenty. První takový zdroj byl demonstrován kvazi stacionárním měkkým rentgenovým laserem ve výzkumném centru PALS v Praze. Problémy spojené s tranzitním měkkým rentgenovým laserem vyvinutým skupinou LIXAM na zařízení LULI v Paleseau jsou zásadního charakteru, neboť prostorový profil svazku má nepravidelnější formu, a protože budoucí zdroje EUV záření s velkou opakovací frekvencí jsou založené na zmíněném SXRL typu. Získané stopy mají v průměru 20 mikrometrů a spíše homogenní a hladký profil, čímž se řadí mezi realistické zdroje vhodné pro interakci s terčíky, které vyžadují relativně vysokou fluenci (blízko 1 J/cm2) nebo intensity (blízko 1011 W/cm2) v EUV oblasti záření
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0137879