Počet záznamů: 1

Titania seed layers for PZT thin film growth on copper-coated Kapton films

  1. 1.
    0336552 - FZU-D 2010 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Suchaneck, G. - Volkonskiy, O. - Hubička, Zdeněk - Dejneka, Alexandr - Jastrabík, Lubomír - Adolphi, B. - Bertram, M. - Gerlach, G.
    Titania seed layers for PZT thin film growth on copper-coated Kapton films.
    [Zárodečné mezivrstvy oxidu titanu určené pro růst PZT vrstev na poměděných kaptonových foliích.]
    Integrated Ferroelectrics. Roč. 108, č. 1 (2009), s. 57-66 ISSN 1058-4587
    Grant CEP: GA ČR GC202/09/J017; GA AV ČR KJB100100703
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: copper coated Kapton * seed layer * seed layer * plasma deposition * XPS
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 0.329, rok: 2009

    n this work, we investigate the deposition of crystallization-promoting amorphous titania seed layers onto Cu-coated Kapton (R) HN foils for a subsequent PZT thin film fabrication thereon. Ultrathin TiO2-x layers with controlled stoichiometry were deposited by reactive sputtering at low substrate temperatures. X-ray photoelectron spectroscopy revealed that the Ti4+ ion in the seed layer was stable against Ar+ bombardment-induced reduction while CuO was reduced to Cu2O. Adsorbed moisture, organic solvents and carbon contaminations were quickly removed by Ar+ ion bombardment. (111)-textured PZT was fabricated on seed-layer-coated flexible substrates by means of a RF-modulated plasma jet system.

    Tato práce se zabývá depozicí základní zárodečný mezivrstvy oxidu titanu na poměděné kaptonové folie vhodné pro následující růst PZT vrstev. Ultratenké TiO2-x mezivrstvy s kontrolovanou stechiometrií byly naprašovány pomocí reaktivního sputteringu za nízkých teplot podložky. X-ray fotoelektronová spektroskopie ukázala, že Ti4+ iont v zárodečné vrstvě je stabilní vůči Ar+ bombardováním vyvolané redukci , zatimco CuO bylo redukováno na Cu2O. Adsorbovaná vlhkost,zbytky organických rozpouštědel a pod. byly poměrně rychle odstraněny Ar+ bombardováním. Na mezivrstvu oxidu titanu naprášenou na flexibilním substrátu byly úspěšně deponovány vrstvy PZT vykazující (111)-texturu.Depozice byla realizována s využitím RF-modulovaného depozičního systému s plazmatickou tryskou.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180761