Počet záznamů: 1

A study of the ion flux during deposition of titanium thin films by hollow cathode plasma jet

  1. 1.
    0333649 - FZU-D 2010 RIV JP eng J - Článek v odborném periodiku
    Virostko, Petr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Jastrabík, Lubomír - Tichý, M.
    A study of the ion flux during deposition of titanium thin films by hollow cathode plasma jet.
    [Studium iontového toku během depozice tenkých vrstev titanu pomocí plazmové trysky s efektem duté katody.]
    Journal of Plasma and Fusion Research SERIES. Roč. 8, - (2009), 719-723 ISSN 1883-9630.
    [Proceedings of the 14th International Congress on Plasma Physics (ICPP2008). Fukuoka, 08.09.2008-12.09.2008]
    Grant CEP: GA AV ČR KJB100100707; GA AV ČR KJB100100805; GA MŠk(CZ) 1M06002
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: ion flux * plasma jet * hollow cathode * plasma diagnostics
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    http://www.jspf.or.jp/JPFRS/PDF/Vol8/jpfrs2009_08-0719.pdf http://www.jspf.or.jp/JPFRS/PDF/Vol8/jpfrs2009_08-0719.pdf

    Flux of positive ions to the substrate in the hollow cathode plasma jet system during deposition of titanium thin films was studied. The substrate was negatively biased by applying 50 kHz pulsed DC, or 0.50-1.25 MHz and 13.56 MHz high-frequency voltage to it. The ion flux determined in the DC hollow cathode discharge during the active high frequency bias was systematically higher than for the pulsed DC bias or determined right after the high frequency bias was turned off. On the other hand in the RF hollow cathode discharge, the ion fluxes determined for the active high frequency and 50 kHz low frequency bias were comparable. Possible explanations of this phenomenon are discussed.

    Byl studován tok kladných iontů na substrát v plazmatickém tryskovém systému s efektem duté katody během depozice tenkých vrstev titanu. Substrát byl držen na záporném potenciálu vůči plazmatu za použití pulzního DC napětí o frekvenci 50 kHz a vysokofrekvenčního napětí o frekvencích 0,50-1,25 MHz a 13,56 MHz. V DC výboji byl tok iontů na substrát během vysokofrekvenčního buzení systematicky vyšší než během pulzního DC buzení nebo přímo po skončení vysokofrekvenčního buzení. Na druhou stranu ve vysokofrekvenčním výboji byly toky iontů při vysokofrekvenčním buzení a při pulzním DC buzení substrátu srovnatelné. V práci jsou diskutována možná vysvětlení pozorovaných jevů.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0178588