Počet záznamů: 1

Highly oriented crystalline Er:YAG and Er:YAP layers prepared by PLD and annealing

  1. 1.
    0328762 - FZU-D 2010 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Remsa, Jan - Jelínek, Miroslav - Kocourek, Tomáš - Oswald, Jiří - Studnička, Václav - Čerňanský, Marian - Uherek, F. - Jelínek, M.
    Highly oriented crystalline Er:YAG and Er:YAP layers prepared by PLD and annealing.
    [Vysoce orientované krystalické vrstvy Er:YAG a Er:YAP připravené pomocí PLD a přežíhané.]
    Applied Surface Science. Roč. 255, č. 10 (2009), s. 5292-5294 ISSN 0169-4332
    Grant CEP: GA ČR GA202/06/0216
    Grant ostatní: International Laser Centre(XE) RPEU-0005-06.
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: Er:YAG * thin films * waveguides * PLD * laser
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.616, rok: 2009

    High quality, thick, highly oriented crystalline thin films of Yttrium Aluminum Garnet (Y3Al5O12) and Yttrium Aluminum Perovskite (YAlO3) doped with Erbium were prepared by pulsed laser deposition. Samples were created in vacuum or oxygen environment. Depositions were arranged at room temperature, or at high substrate temperatures ranging from 800 to 1100 8C. Amorphous layers were annealed by laser, or in oven (argon flow, temperatures in range from 1200 to 1400 8C). Fused silica and sapphire (0 0 0 1) were used as substrates. Properties of films were characterized by X-ray diffraction, atomic force microscopy, and by photoluminescence measurement. Size of crystalline grains was in the range 116–773 nm. Thickness of layers was up to 17 mm.

    Vysoce kvalitní, vysoce orientované tenké vrstvy (Y3Al5O12) a (YAlO3) dopované erbiem byly připraveny metodou pulzní laserové depozice ve vakuu nebo v kyslíkovém prostředí. Depozice byla na pokojové teploty, nebo při ohřevu podložky na 800 - 1100 8C. Amorfní vrstvy byly přežíhány laserem, nebo v peci (argon 1200 - 1400 8C).Vlastnosti byly studovány XRD, AFM a fotoluminiscencí. Krystalická nena měla velikost 116–773 nm. Tloušťka vrstev byla až 17 mikrometrů.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0005433