Vyžádat soubor

Reference/citace:  VALA, Milan, HOMOLA, Jiří. Multiple beam interference lithography: A tool for rapid fabrication of plasmonic arrays of arbitrary shaped nanomotifs. Optics Express. 2016, 24(14), 15656-15665. ISSN 1094-4087
Vyžádané dokumenty:  UFE 0469282.pdf - Autorský preprint
Tento vyžádaný dokument není dostupný v režimu otevřeného přístupu (open access). Prostřednictvím níže dostupného formuláře však můžete požádat autora o kopii dokumentu. Pokud bude Vaše žádost akceptována, dokument obdržíte e-mailem.