Výsledky vyhledávání
- 1.0437497 - FZÚ 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Musil, Jindřich - Satava, V. - Baroch, P.
High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target.
Thin Solid Films. Roč. 519, č. 2 (2010), s. 775-777. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100520
Klíčová slova: sputtering * evaporation * reactive deposition * target power density
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.909, rok: 2010
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0241059 - 2.0425389 - ÚCHP 2015 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Pola, Josef - Urbanová, Markéta - Pokorná, Dana - Bezdička, Petr - Kupčík, Jaroslav - Křenek, T.
Reactive Deposition of Laser Ablated FeS1-x Particles on Copper Surface.
RSC Advances. Roč. 4, č. 23 (2014), s. 11543-11551. E-ISSN 2046-2069
Grant ostatní: GA MŠMT(CZ) CZ.1.05/2.1.00/03.0088
Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:61388980
Klíčová slova: laser ablation * reactive deposition * copper sulfide
Kód oboru RIV: CA - Anorganická chemie
Impakt faktor: 3.840, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0231268Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0425389.pdf 10 7.8 MB Autorský postprint povolen