Výsledky vyhledávání
- 1.0557264 - ÚPT 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Plichta, Tomáš - Zahradníček, R. - Čech, V.
Surface topography affects the nanoindentation data.
Thin Solid Films. Roč. 745, 1 March (2022), č. článku 139105. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Thin film * Plasma-enhanced chemical vapour deposition * Surface topography * Nanoindentation * Mechanical properties * Modulus of elasticity * Hardness * Atomic force microscopy
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.1, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609022000268
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333434 - 2.0454568 - FZÚ 2016 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Taylor, Andrew - Ashcheulov, Petr - Čada, Martin - Fekete, Ladislav - Hubík, Pavel - Klimša, Ladislav - Olejníček, Jiří - Remeš, Zdeněk - Jirka, Ivan - Janíček, P. - Bedel-Pereira, E. - Kopeček, Jaromír - Mistrík, J. - Mortet, Vincent
Effect of plasma composition on nanocrystalline diamond layers deposited by a microwave linear antenna plasma-enhanced chemical vapour deposition system.
Physica Status Solidi A. Roč. 212, č. 11 (2015), s. 2418-2423. ISSN 1862-6300. E-ISSN 1862-6319
Grant CEP: GA ČR GA13-31783S; GA MŠMT LO1409
Grant ostatní: FUNBIO(XE) CZ.2.16/3.1.00/21568
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61388955
Klíčová slova: diamond * electrical conductivity * nanocrystalline materials * optical emission spectroscopy * plasma enhanced chemical vapour deposition * SiC
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.648, rok: 2015
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0255231 - 3.0336628 - FZÚ 2010 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Stuchlík, Jiří - Ledinský, Martin - Honda, Shinya - Drbohlav, Ivo - Mates, Tomáš - Fejfar, Antonín - Hruška, Karel - Stuchlíková, The-Ha - Kočka, Jan
LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition.
Thin Solid Films. Roč. 517, č. 24 (2009), s. 6829-6832. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Grant CEP: GA AV ČR KAN400100701; GA ČR(CZ) GD202/05/H003; GA MŠMT LC510; GA AV ČR IAA1010413
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: amorphous hydrogenated silicon * atomic force microscopy * plasma-enhanced chemical vapour deposition, * nucleation * Raman scattering * lithium fluoride
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.727, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180823