Výsledky vyhledávání
- 1.0571728 - ÚFE 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vasin, Andrii - Slobodian, O. - Rusavsky, A. - Gudymenko, O. - Lytvyn, P. - Tiagulskyi, Stanislav - Yatskiv, Roman - Grym, Jan - Bortchagovsky, E.B. - Dzhagan, V. - Zahn, D. - Nazarov, A.
Nanoscale morphology tailoring in plasma deposited CN (x) layers.
Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 56, č. 27 (2023), č. článku 275302. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: CN (x) thin layers * nanoscale morphological shaping * plasma deposition
Obor OECD: Materials engineering
Impakt faktor: 3.4, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345173Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup UFE 0571728.pdf 2 7.5 MB Jiná vyžádat - 2.0540719 - FZÚ 2021 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Bodnár, M. - Moravec, V. - Vrňata, M. - Fitl, P. - Lančok, Ján - Novotný, Michal - Bulíř, Jiří
Malosériová technologie výroby senzorů pomocí plasmové depozice.
[Small series technology of sensor production using plasma deposition.]
Interní kód: Technologie senzorů na KBS4 ; 2020
Technické parametry: V rámci projektu byla realizována technologie výroby chemorezistivních senzorů plynů na keramickém substrátu Al2O3 se senzorovou vrstvou deponovanou pomocí vyvinuté aparatury pro plazmatickou depozici
Ekonomické parametry: Zavedení nových produktů do výrobního portfolia s cílem zvýšení tržeb a objemu výroby v oblasti senzorů.
Grant CEP: GA MPO FV20350
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemoresistive sensor * plasma deposition
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0318335 - 3.0496658 - ÚCHP 2019 RIV BE eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Jirátová, Květa - Kšírová, P. - Dvořáková, M. - Balabánová, Jana - Topka, Pavel - Čada, Martin - Kovanda, F. - Perekrestov, Roman
Plasma-aided Deposition of Cobalt Oxide over Stainless Steel Meshes as the Preparation Method of Catalysts for Deep Oxidation of Ethanol.
Book of Abstract. Louvain-la-Neuve: Université catholique de Louvain, 2018 - (Gaigneux, E.), s. 202-203, č. článku P052. ISBN N.
[Scientific Bases for the Preparation of Hetetrogeneous Catalysts PREPA 12 /12./. Louvain-la-Neuve (BE), 08.07.2018-12.07.2018]
Grant CEP: GA ČR GA17-08389S
Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:68378271
Klíčová slova: Co oxides on meshes * plasma deposition * deep ethanol oxidation
Obor OECD: Chemical process engineering; Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) (FZU-D)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289324Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup SKMBT_C22018071611340.pdf 3 1.1 MB Vydavatelský postprint povolen - 4.0490867 - ÚMCH 2019 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
Skočdopole, J. - Kalvoda, L. - Nozar, P. - Netopilík, Miloš
Preparation of polymeric coatings by ionized jet deposition method.
Chemical Papers. Roč. 72, č. 7 (2018), s. 1735-1739. ISSN 0366-6352
Institucionální podpora: RVO:61389013
Klíčová slova: plasma deposition * ionized jet deposition * PVC
Obor OECD: Polymer science
Impakt faktor: 1.246, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0285095 - 5.0489659 - FZÚ 2019 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Bogdanowicz, R. - Sezemsky, P. - Wulff, H. - Kruth, A. - Smietana, M. - Kratochvíl, J. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Towards high quality ITO coatings: the impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges.
Surface and Coatings Technology. Roč. 335, Feb (2018), s. 126-133. ISSN 0257-8972
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: film properties * HiPIMS * ITO * plasma deposition
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.192, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284031 - 6.0486984 - FZÚ 2018 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, V. - Kratochvíl, J. - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Sezemsky, P. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Enhanced oxidation of TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering running in metallic mode.
Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9, č. článku 171914. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputter deposition * plasma deposition * gas discharges * metallic thin films * probe plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.176, rok: 2017
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281690 - 7.0476548 - FZÚ 2017 RIV cze P - Patentový dokument
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Jan - Straňák, Vítězslav
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.
[A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method.]
2017. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 31.05.2017. Číslo patentu: 306799
Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma deposition * electrone-cyclotrone wave * acoustic emission
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0273025 - 8.0462264 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Petr - Straňák, Vítězslav
Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny.
[Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave.]
2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 07.06.2016. Číslo vzoru: 29519
Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * low-temprature plasma * thin film * plasma density * plasma deposition
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0261744 - 9.0447379 - ÚFP 2016 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Ctibor, Pavel - Kotlan, Jiří - Pala, Zdeněk - Sedláček, J. - Hájková, Zuzana - Matys Grygar, Tomáš
Calcium titanate (CaTiO3) dielectrics prepared by plasma spray and post-deposition thermal treatment.
Materials Research Bulletin. Roč. 72, December (2015), s. 123-132. ISSN 0025-5408. E-ISSN 1873-4227
Institucionální podpora: RVO:61389021 ; RVO:61388980
Klíčová slova: Ceramics * Plasma deposition * Impedance spectroscopy * Raman spectroscopy * Dielectrics
Obor OECD: Ceramics; Ceramics (UACH-T)
Impakt faktor: 2.435, rok: 2015
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0025540815300623
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0249234 - 10.0439492 - ÚACH 2015 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Lančok, Adriana - Kohout, J. - Miglierini, M. - Fendrych, František - Klementová, Mariana - Lančok, Ján
Study of Fe-Co Nanocomposite Films.
Mössbauer Spectroscopy in Materials Science - 2010. Melville, New York: American Institute of Physics, 2010 - (Tuček, J.; Miglierini, M.), s. 82-89. AIP Conference Proceedings, Vol. 1258. ISBN 978-0-7354-0806-7. ISSN 0094-243X.
[International Conference on Mossbauer Spectroscopy in Materials Science. Liptovský Ján (SK), 31.01.2010-05.02.2010]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40320502; CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: Mossbauer spectroscopy * thin films * nanoparticles * nuclear magnetic resonance * magnetron sputtering * plasma deposition * high resolution transmission electron microscopy
Kód oboru RIV: CA - Anorganická chemie
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0242778