Výsledky vyhledávání
- 1.0353109 - ÚPT 2011 CZ eng K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Konvalina, Ivo - Müllerová, Ilona
Analysis of a combined electrostatic and magnetic objective lens.
Mikroskopie 2010. Nové Město na Moravě: Československá mikroskopická společnost, 2010 - (Frank, L.; Hozák, P.), s. 41. ISBN N.
[Mikroskopie 2010. Nové Město na Moravě (CZ), 17.02.2010-18.02.2010]
Grant CEP: GA AV ČR IAA100650902
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: photoemission electron microscopy * low energy electron microscopy * EOD software
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0006219 - 2.0340745 - ÚPT 2010 RIV JP eng J - Článek v odborném periodiku
Hovorka, Miloš - Mika, Filip - Mikulík, P. - Frank, Luděk
Profiling N-Type Dopants in Silicon.
Materials Transactions. Roč. 51, č. 2 (2010), s. 237-242. ISSN 1345-9678. E-ISSN 1347-5320
Grant CEP: GA ČR GP102/09/P543; GA AV ČR IAA100650803
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: silicon * dopant contrast * photoemission electron microscopy * scanning electron microscopy
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 0.779, rok: 2010
http://www.jim.or.jp/journal/e/51/02/237.html
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0183926 - 3.0050986 - ÚPT 2007 cze K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Hovorka, Miloš
Studium vlastností dopovaného křemíku pomocí fotoemisní elektronové mikroskopie s využitím energiového filtru.
[High-pass Energy filtered PEEM Imaging of Dopants in Silicon.]
PDS 2006 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronová optika. Brno: ÚPT AV ČR, 2006, s. 19-22. ISBN 80-239-7957-4.
[PDS 2006. Brno (CZ), 19.12.2006]
Grant CEP: GA ČR GA202/04/0281
Klíčová slova: silicon * photoemission electron microscopy * contrast
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0140988 - 4.0050919 - ÚPT 2007 RIV JP eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Hovorka, Miloš - Frank, Luděk - Valdaitsev, D. - Nepijko, S. - Elmers, H. - Schönhense, G.
High-pass Energy filtered PEEM Imaging of Dopants in Silicon.
[Studium vlastností dopovaného křemíku pomocí fotoemisní elektronové mikroskopie s využitím energiového filtru.]
The 5th International Conference on LEEM/PEEM. Himeji: JSRRI, 2006, s. 176.
[LEEM/PEEM /5./. Himeji (JP), 15.10.2006-19.10.2006]
Grant CEP: GA ČR GA202/04/0281
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: silicon * photoemission electron microscopy * contrast
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0140946