Výsledky vyhledávání
- 1.0570898 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Rauch, T. - Márton, Pavel - Botti, S. - Hlinka, Jiří
Band alignment at the strontium germanate interface with silicon.
Physical Review B. Roč. 107, č. 11 (2023), č. článku 115303. ISSN 2469-9950. E-ISSN 2469-9969
Grant CEP: GA ČR(CZ) GF21-20110K
Výzkumná infrastruktura: e-INFRA CZ - 90140
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: photocatalytic water splitting * low-cost solid-state photocatalysts * photocathode * large-scale clean energy production
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 3.7, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1103/PhysRevB.107.115303
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0342229 - 2.0531792 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hubička, Zdeněk - Zlámal, M. - Olejníček, Jiří - Tvarog, Drahoslav - Čada, Martin - Krýsa, J.
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system.
Coatings. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-14, č. článku 232. E-ISSN 2079-6412
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA17-20008S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: photocathode film * r-HiPIMS plus ECWR plasma * r-HiPIMS plasma * copper iron oxide * photocurrent
Obor OECD: Materials engineering
Impakt faktor: 2.881, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0310408Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0531792.pdf 0 3.6 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 3.0512095 - FZÚ 2020 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Hubička, Zdeněk - Zlámal, M. - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Krysa, J.
Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering.
Catalysis Today. Roč. 328, May (2019), s. 29-34. ISSN 0920-5861. E-ISSN 1873-4308
Grant CEP: GA ČR GA17-20008S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: high power impulse magnetron sputtering * reactive sputtering * magnetron discharge * photocathode * photocurrent * copper oxide
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 5.825, rok: 2019
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.cattod.2018.11.034
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0302301