Výsledky vyhledávání
- 1.0567910 - FZÚ 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Domonkos, M. - Kromka, Alexander
Nanosphere lithography-based fabrication of spherical nanostructures and verification of their hexagonal symmetries by image analysis.
Symmetry-Basel. Roč. 14, č. 12 (2022), č. článku 2642. E-ISSN 2073-8994
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: nanosphere lithography * self-assembly * hexagonal symmetry * plasma etching * image analysis * defect detection
Obor OECD: Nano-materials (production and properties)
Impakt faktor: 2.7, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0339173Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0567910.pdf 1 4.3 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 2.0556001 - FZÚ 2023 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Domonkos, M. - Jackivová, Rajisa - Pathó, A.
Image analysis algorithm for the verification of hexagonal symmetry in spherical nanostructures.
Microelectronic Engineering. Roč. 251, Jan (2022), č. článku 111635. ISSN 0167-9317. E-ISSN 1873-5568
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: image analysis * nanosphere lithography * defect detection * hexagonal ordering * scanning electron microscopy * Python
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 2.3, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.mee.2021.111635
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330401 - 3.0533915 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Domonkos, Mária - Demo, Pavel - Kromka, Alexander
Nanosphere lithography for structuring polycrystalline diamond films.
Crystals. Roč. 10, č. 2 (2020), s. 1-14, č. článku 118. ISSN 2073-4352. E-ISSN 2073-4352
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MŠMT LM2018110
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: diamond thin films * nanosphere lithography * polystyrene spheres * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.589, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0312141Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0533915.pdf 0 3.9 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 4.0486284 - FZÚ 2019 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Domonkos, Mária - Ižák, Tibor - Stolcova, L. - Proška, J. - Kromka, Alexander
Controlled structuring of self-assembled polystyrene microsphere arrays by two different plasma systems.
NANOCON 2013 - 5th International Conference Proceedings. Ostrava: TANGER Ltd, 2014, s. 34-38. ISBN 978-80-87294-47-5.
[5th International Conference Nanocon 2013. Brno (CZ), 16.10.2013-18.10.2013]
Grant CEP: GA ČR GAP108/12/0910
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: nanosphere lithography * reactive ion etching * pulsed linear-antenna microwave plasma * polystyrene microspheres * Langmuir-Blodgett monolayers
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281147 - 5.0436779 - FZÚ 2015 RIV CZ eng K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Domonkos, Mária - Ižák, Tibor - Demo, Pavel - Kromka, Alexander
Applications of self-assembled 2D polystyrene nanosphere arrays.
Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2014 (NaNS 2014). Praha: ČVUT, 2014 - (Nežerka, V.; Rácová, Z.; Ryparová, P.; Tesárek, P.), s. 42-47. ISBN 978-80-01-05512-0.
[Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2014 (NaNS 2014). Praha (CZ), 12.06.2014-12.06.2014]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GBP108/12/G108
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: nanosphere lithography * nanostructuring * polystyrene microspheres * reactive ion etching
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240452 - 6.0425611 - FZÚ 2014 RIV CZ eng K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Domonkos, Mária - Ižák, Tibor - Štolcová, L. - Proška, J. - Kromka, Alexander
Reactive ion etching of polystyrene microspheres.
Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013. Praha: ČVUT, 2013 - (Nežerka, V.; Rácová, Z.; Ryparová, P.; Tesárek, P.), s. 24-28. ISBN 978-80-01-05334-8.
[Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013. Praha (CZ), 12.06.2013-12.06.2013]
Grant CEP: GA ČR(CZ) GBP108/12/G108
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: nanosphere lithography * reactive ion etching * polystyrene microspheres * Langmuir-Blodgett monolayers
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0231433