Výsledky vyhledávání
- 1.0580450 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Černý, Š. - Chlumská, J. - Kandra, M. - Matějka, M. - Stříteský, S. - Těthal, T. - Jákl, Petr - Plichta, Tomáš - Šerý, Mojmír - Šilhan, Lukáš - Škrabalová, Denisa - Vaculík, Ondřej
Prototyp zařízení pro zápis laserovým svazkem s využitím 2PP.
[Prototype device for laser beam writing using 2PP.]
Interní kód: APL-2023-12 ; 2023
Technické parametry: Stereolitografické zapisovací zařízení (SLW2) s ultravysokým rozlišením. SLW2 používá k expozici výkonný femtosekundový laser o vlnové délce 1030 nm, respektive 515 nm na druhé harmonické frekvenci. Velikost záznamové oblasti 50×50×50 mm3.
Ekonomické parametry: Prototyp zařízení vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Mojmír Šerý, Ph.D., sery@isibrno.cz.
Grant CEP: GA MPO(CZ) EG19_262/0020294
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: two-photon lithography * stereolithography * 3D printing
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349221 - 2.0579897 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Kopal, Jaroslav
SMV-2023-04: Šablona pro bio–aplikace připravená elektronovou litografií.
[SMV-2023-04: Template for bio–applications prepared by EBL.]
Brno: Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně, Fakulta technologická, 2023. 10 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e–beam lithography * templates and replicas
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348682 - 3.0579884 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2023-01: Reliéfní struktury na principu diftraktivní optiky.
[SMV-2023-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2023. 32 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348668 - 4.0579883 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2023-02: Reliéfní optické prvky pro tvarování světelných svazků.
[SMV-2023-02: Relief optical elements for shaping light bundles.]
Brno: IQS Group s.r.o., 2023. 31 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief optical elements * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348665 - 5.0579449 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hrabina, Jan - Pravdová, Lenka - Holá, Miroslava - Číp, Ondřej - Lazar, Josef
Laserový systém 267 nm.
[Laser system 267 nm.]
Interní kód: APL-2023-05 ; 2023
Technické parametry: Systém generuje kontinuální laserový svazek s vlnovou délkou 267 nm a výstupním optickým výkonem > 10 mW. Optický výstup ze systému je realizován ve volné optice. Spektrální šířka čáry výstupního svazku je < 100 kHz.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Jan Hrabina, Ph.D., shane@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010232
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: UV laser * frequency doubling * UV lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348449 - 6.0579072 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2023-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347946 - 7.0579070 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-05: DI2023.
[SMV-2023-05: DI2023.]
Brno: DELONG INSTRUMENTS a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347943 - 8.0575662 - ÚPT 2024 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Mikel, Břetislav - Helán, R. - Urban, F.
Technologie výroby nelineárních fázových masek.
[The manufacturing process of apodized phase masks.]
Interní kód: APL-2023-03 ; 2023
Technické parametry: Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm.
Ekonomické parametry: Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW01010379
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345419 - 9.0575340 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě.
[Calibration standard with micro relief calibration structure recorded in a thin layer.]
Interní kód: APL-2024-01 ; 2024
Technické parametry: Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů (s mikronovým a submikronovým rozlišením) vytvořených v tenké vrstvě feromagnetického materiálu naneseného pomocí PVD techniky.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Calibration sample for microscopy * ferromagnetic layers * electron lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345129 - 10.0574018 - ÚJF 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Romanenko, Oleksandr V. - Lavrentiev, Vasyl - Borodkin, Andrei - Havránek, Vladimír - Macková, Anna
Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film.
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 538, MAY (2023), s. 123-130. ISSN 0168-583X. E-ISSN 1872-9584
Grant CEP: GA MŠMT EF18_053/0017163
Institucionální podpora: RVO:61389005 ; RVO:67985882
Klíčová slova: PMMA shrinkage * Ion beam lithography * Microstructuring * Diffraction grating
Obor OECD: Nuclear physics; Optics (including laser optics and quantum optics) (URE-Y)
Impakt faktor: 1.3, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2023.02.001
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344381