Výsledky vyhledávání

0556001 - FZÚ 2023 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Domonkos, M. - Jackivová, Rajisa - Pathó, A.
Image analysis algorithm for the verification of hexagonal symmetry in spherical nanostructures.
Microelectronic Engineering. Roč. 251, Jan (2022), č. článku 111635. ISSN 0167-9317. E-ISSN 1873-5568
Grant CEP: GA MŠk LM2018110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: image analysis * nanosphere lithography * defect detection * hexagonal ordering * scanning electron microscopy * Python
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 2.523, rok: 2020
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330401

0549960 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec.
[SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern.]
Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021. 8 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e-beam lithography * optics * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325852

0549952 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2021-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2021-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2021. 22 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325848

0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890

0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586