Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0556001 - FZÚ 2023 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Domonkos, M. - Jackivová, Rajisa - Pathó, A.
    Image analysis algorithm for the verification of hexagonal symmetry in spherical nanostructures.
    Microelectronic Engineering. Roč. 251, Jan (2022), č. článku 111635. ISSN 0167-9317. E-ISSN 1873-5568
    Grant CEP: GA MŠk LM2018110
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: image analysis * nanosphere lithography * defect detection * hexagonal ordering * scanning electron microscopy * Python
    Obor OECD: Electrical and electronic engineering
    Impakt faktor: 2.523, rok: 2020
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330401
     
     
  2. 2.
    0551708 - ÚPT 2022 RIV CZ cze O - Ostatní výsledky
    Brunn, Ondřej - Burda, Daniel - Kolařík, Vladimír - Kopal, Jaroslav
    Skleněná maska se sub mikronovými otvory.
    [Glass mask with sub micron pinholes.]
    2021
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: pinhole * mask * electron lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326939
     
     
  3. 3.
    0549960 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec.
    [SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern.]
    Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021. 8 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: e-beam lithography * optics * reactive ion etching
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325852
     
     
  4. 4.
    0549956 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2021-07: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2021-07: Relief microstructures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS Group s.r.o., 2021. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325849
     
     
  5. 5.
    0549952 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2021-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
    [SMV-2021-01: Relief structures based on diffractive optics.]
    Brno: IQS nano s.r.o., 2021. 22 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325848
     
     
  6. 6.
    0549311 - ÚPT 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Šimonová, L. - Matějka, Milan - Knápek, Alexandr - Králík, Tomáš - Pokorná, Zuzana - Mika, Filip - Fořt, Tomáš - Man, O. - Škarvada, P. - Otáhal, A. - Čudek, P.
    Nanostructures for achieving selective properties of a thermophotovoltaic emitter.
    Nanomaterials. Roč. 11, č. 9 (2021), č. článku 2443. E-ISSN 2079-4991
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: thermophotovoltaics * selective emitters * nanostructures * reactive ion etching * emissivity * electron beam lithography
    Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Impakt faktor: 5.076, rok: 2020
    Způsob publikování: Open access
    https://www.mdpi.com/2079-4991/11/9/2443
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0325334
     
     
  7. 7.
    0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890
     
     
  8. 8.
    0545141 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Kopal, Jaroslav
    SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav.
    [SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems.]
    Brno: Meopta - optika, s.r.o., 2021. 6 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: e-beam lithography * lithography mask
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321889
     
     
  9. 9.
    0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
    Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
    [Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
    Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
    Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586
     
     
  10. 10.
    0544705 - ÚOCHB 2022 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
    Sharan, P. - Maslen, C. - Altunkeyik, B. - Řehoř, Ivan - Simmchen, J. - Montenegro-Johnson, T. D.
    Fundamental Modes of Swimming Correspond to Fundamental Modes of Shape: Engineering I-, U-, and S-Shaped Swimmers.
    Advanced Intelligent Systems. Roč. 3, č. 11 (2021), č. článku 2100068. ISSN 2640-4567
    Grant ostatní: AV ČR(CZ) Fellowship J. E. Purkyně
    Institucionální podpora: RVO:61388963
    Klíčová slova: active matter * bubble-driven micromotors * enzymes * microswimmers * stop-flow lithography
    Obor OECD: Chemical process engineering
    Způsob publikování: Open access
    https://doi.org/10.1002/aisy.202100068
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321530