Výsledky vyhledávání
- 1.0574018 - ÚJF 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Romanenko, Oleksandr V. - Lavrentiev, Vasyl - Borodkin, Andrei - Havránek, Vladimír - Macková, Anna
Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film.
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 538, MAY (2023), s. 123-130. ISSN 0168-583X. E-ISSN 1872-9584
Grant CEP: GA MŠMT EF18_053/0017163
Institucionální podpora: RVO:61389005 ; RVO:67985882
Klíčová slova: PMMA shrinkage * Ion beam lithography * Microstructuring * Diffraction grating
Obor OECD: Nuclear physics; Optics (including laser optics and quantum optics) (URE-Y)
Impakt faktor: 1.3, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2023.02.001
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344381 - 2.0565861 - ÚJF 2023 RIV FR eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Romanenko, Oleksandr V. - Jagerová, Adéla - Borodkin, Andrei - Havránek, Vladimír - Macková, Anna
One-step 3D microstructuring of PMMA using MeV light ions.
EPJ Web of Conferences. Vol. 261. Les ulis: EDP sciences, 2022, č. článku 02001. E-ISSN 2100-014X.
[Applied Nuclear Physics Conference (ANPC 2021). Prague (CZ), 12.09.2021-17.09.2021]
Grant CEP: GA ČR GA19-02482S
Výzkumná infrastruktura: CANAM II - 90056
Institucionální podpora: RVO:61389005 ; RVO:67985882
Klíčová slova: PMA * 3D microstructures * ion beam lithography
Obor OECD: Nuclear physics; Optics (including laser optics and quantum optics) (URE-Y)
https://doi.org/10.1051/epjconf/202226102001
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337353Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0565861 .pdf 0 1.8 MB Open Access - CC licence Vydavatelský postprint povolen - 3.0525371 - ÚJF 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Romanenko, Oleksandr V. - Slepička, P. - Malinský, Petr - Cutroneo, Mariapompea - Havránek, Vladimír - Stammers, James H. - Švorčík, V. - Macková, Anna
The influence of Au-nanoparticles presence in PDMS on microstructures creation by ion beam lithography.
Surface and Interface Analysis. Roč. 52, č. 12 (2020), s. 1040-1044. ISSN 0142-2421. E-ISSN 1096-9918
Grant CEP: GA ČR GA19-02482S; GA MŠMT LM2015056; GA MŠMT EF16_013/0001812
Institucionální podpora: RVO:61389005
Klíčová slova: gold nanoparticles * ion beam lithography * microstructure * PDMS * shrinkage
Obor OECD: Nano-materials (production and properties)
Impakt faktor: 1.607, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1002/sia.6821
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0312722 - 4.0518743 - ÚJF 2020 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Romanenko, Oleksandr V. - Havránek, Vladimír - Malinský, Petr - Slepička, P. - Stammers, James H. - Švorčík, V. - Macková, Anna - Fajstavr, D.
Effect of irradiation conditions by swift heavy ions on the microstructure and composition of PMMA.
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 461, č. 12 (2019), s. 175-180. ISSN 0168-583X. E-ISSN 1872-9584
Grant CEP: GA MŠMT EF16_013/0001812; GA MŠMT LM2015056; GA ČR GA19-02482S
Institucionální podpora: RVO:61389005
Klíčová slova: heavy ion beam lithography * PMMA film * microstructuring * shrinkage * swelling
Obor OECD: Atomic, molecular and chemical physics (physics of atoms and molecules including collision, interaction with radiation, magnetic resonances, Mössbauer effect)
Impakt faktor: 1.270, rok: 2019
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2019.09.043
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303804 - 5.0495721 - ÚJF 2019 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Cutroneo, Mariapompea - Havránek, Vladimír - Macková, Anna - Malinský, Petr - Torrisi, L. - Perez-Hernandez, J. A. - Roso, L. - Luxa, J. - Sofer, Z. - Bottger, R.
Ion-beam lithography: A promising technique for the patterning of graphene oxide foil.
AIP Conference Proceedings. Vol. 2011. Melville: AIP Publishing, 2018, č. článku 090007. ISBN 978-0-7354-1727-4. ISSN 0094-243X.
[17th International Conference on Ion Sources. Geneva (CH), 15.09.2017-20.09.2017]
Grant CEP: GA MŠMT LM2015056; GA ČR GA16-05167S; GA MŠMT EF16_013/0001812
Institucionální podpora: RVO:61389005
Klíčová slova: graphene oxide foil * ion beam lithography * deoxygenation
Obor OECD: Nuclear physics
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0288651