Výsledky vyhledávání | Knihovna Akademie věd České republiky

Nalezeno záznamů: 2

Váš dotaz: Předmět (klíč.slova) = "intrinsic stress"

Do košíku
RIV
Bookmark
1.
0335271 - ÚPT 2010 RIV AT eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Mikmeková, Eliška - Janča, J. - Dvořáková, M.
Influence of process parameters on the properties of TEOS DF-PECVD grown SiO2 films by DOE.
MC 2009 - Microscopy Conference: First Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Conference on Microscopy. Graz: Verlag der Technischen Universität, 2009, Vol. 3: 463-464. ISBN 978-3-85125-062-6.
[MC 2009 - Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Congress on Microscopy /9./. Graz (AT), 30.08.2009-04.09.2009]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: DF-PECVD * silicon dioxide * intrinsic stress * DOE * SEM
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
http://www.univie.ac.at/asem/Graz_MC_09/papers/65557.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0179780
Do košíku
RIV
Bookmark
2.
0024671 - FZÚ 2006 RIV ES eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Boháč, Petr - Kulikovsky, V. Y. - Šícha, M.
Some mechanical properties of DLC and CN_x coatings deposited by reactive sputtering or plasma-chemical techniques.
[Některé mechanické vlastnosti povlaků DLC a CN_x deponovaných reaktivním naprašováním a plasmo-chemickými metodami.]
Proceedings of the COST 516 Tribology Symposium /3./. Eibar: Fundatión TEKNIKER, 2000 - (Igartua, A.; Alberdi, A.), s. 117-125. ISBN 84-699-2557-1.
[COST 516 Tribology Symposium. Eibar (ES), 15.05.2000-19.05.2000]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) OC 516.50
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: amorphous films a-C, a-C:H, Ti-C:H, and CNx * mechanical and tribological properties * intrinsic stress evolution * adhesion
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0115175